弊社は、年間5000萬個の高周波磁気デバイス(インダクタ)の生産ライン(敷地3.3萬㎡)を投資し、磁性材料基礎科學研究センター、超微細金屬粉末研究センター、金屬軟磁コアと高周波デバイス研究センターを持つ新本社(1萬㎡)の設立に120億円を投資することを決定した。
弊社は、年間5000萬個の高周波磁気デバイス(インダクタ)の生産ライン(敷地3.3萬㎡)を投資し、磁性材料基礎科學研究センター、超微細金屬粉末研究センター、金屬軟磁コアと高周波デバイス研究センターを持つ新本社(1萬㎡)の設立に120億円を投資することを決定した。